光罩薄膜是极紫外 (EUV) 光刻工艺中的关键部件，指的是在光罩上展开一层薄膜，然后机器在上面绘制要在晶圆上压印的电路，以免光罩受空气中微尘或挥发性气体的污染，减少光掩模的损坏。目前，光罩薄膜的供应商主要是荷兰ASML、日本三井化学和韩国S&S Tech，韩国的EUV薄膜一直被外部厂商垄断。
作为晶圆代工大厂，三星在2021就宣布自研EUV薄膜，并在今年初自主开发出透光率达88%的EUV薄膜。
但是三星并不满足于此，因为目前市场上也有透光率达到90%或以上的EUV薄膜，一家是ASML，另外一家是S&S Tech。
三星半导体近期发布的一份招聘通知显示，正推动开发透光率为92%的EUV薄膜，同时三星也将与外部机构合作，开发和评估由碳纳米管和石墨烯制成的EUV薄膜。
三星在晶圆代工领域的老对手台积电在2019年开始，就使用自己研发的EUV薄膜，并且在2021年时宣布，其EUV薄膜的产能相比2019年将提高20倍。
有业内人士表示，三星推动EUV薄膜的开发，是为了更快的追赶上台积电。