三星推动开发高端EUV薄膜 追赶台积电

2023年02月14日 20:11 次阅读 稿源:快科技 条评论

光罩薄膜是极紫外 (EUV) 光刻工艺中的关键部件,指的是在光罩上展开一层薄膜,然后机器在上面绘制要在晶圆上压印的电路,以免光罩受空气中微尘或挥发性气体的污染,减少光掩模的损坏。目前,光罩薄膜的供应商主要是荷兰ASML、日本三井化学和韩国S&S Tech,韩国的EUV薄膜一直被外部厂商垄断。

作为晶圆代工大厂,三星在2021就宣布自研EUV薄膜,并在今年初自主开发出透光率达88%的EUV薄膜。

但是三星并不满足于此,因为目前市场上也有透光率达到90%或以上的EUV薄膜,一家是ASML,另外一家是S&S Tech。

三星半导体近期发布的一份招聘通知显示,正推动开发透光率为92%的EUV薄膜,同时三星也将与外部机构合作,开发和评估由碳纳米管和石墨烯制成的EUV薄膜。

三星在晶圆代工领域的老对手台积电在2019年开始,就使用自己研发的EUV薄膜,并且在2021年时宣布,其EUV薄膜的产能相比2019年将提高20倍。

有业内人士表示,三星推动EUV薄膜的开发,是为了更快的追赶上台积电。

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