据报道，苹果20周年纪念版iPhone 20将采用1.1毫米极窄屏幕边框，搭配极致圆润的边缘处理与四曲面瀑布屏设计，整机视觉效果接近无缝玻璃面板。此次曝光的设计核心为真全面屏形态，为配合1.1毫米窄边框，iPhone 20采用四边均向中框自然弯曲的四曲面屏幕，进一步弱化边框存在感，提升正面屏占比与一体感。
圆润边缘与四曲面造型相契合，可减少视觉断层，让机身握持手感更顺滑，同时强化整机的精致感与辨识度。
要实现该外观，苹果需将前置摄像头与面容识别组件置于屏幕下方，这也是真全面屏方案的关键技术难点。
据悉，当前研发团队仍面临光线穿透率不足、屏下传感器识别精度未达标的问题，影响屏下摄像头成像与Face ID解锁稳定性。
有媒体指出，iPhone 20距离量产仍有约18个月时间，苹果有充足周期优化屏下透光、算法校准等环节，逐步解决现有技术瓶颈。
